第三百章為什么不可能
高凡這話，要是讓畢主任聽見，只怕要指著他的鼻子大罵他信口開河了。
什么，光刻膠沒有技術門檻，你說的是貼春聯的漿糊吧？
光刻技術，被稱為人類工業成果的集大成者。光刻機的制造固然要涉及到無數尖端制造工藝，光刻膠的研制與合成，同樣需要化學與物理學的完美集成。
一種優秀的光刻膠，需要考慮到靈敏度、對比度、抗刻蝕性、分辨能力、曝光寬容度、工藝寬容度、熱流動性、膨脹效應、黏度、保證期限等等，研究人員需要從理論上設計出符合條件的化合物，想辦法進行合成，并在實踐中不斷優化配方，最后才有一個很小的概率能夠開發出一種有效的光刻膠。
有時候，開發出來的光刻膠在某些方面表現出色，而另外一些方面仍存在問題，這時候還需要與集成電路制造商協調，調整光刻工藝以規避光刻膠中存在的缺陷。
總之，就是一句話，認為光刻膠沒有技術門檻，是徹頭徹尾的外行言論。
那么，高凡是外行嗎？
顯然不是。
他之所以敢說光刻膠沒有太高的門檻，是因為他通曉20世紀80年代至21世紀前20年全球光刻膠技術的發展脈絡，目前美國、日本、德國、英國的光刻膠廠商正在苦苦探索的技術訣竅，在他腦子里已經有了清晰的答案。
給高凡一張EUV光刻機的制造圖紙，他沒辦法把設備造出來。因為制造這臺設備，需要使用許多種精密機床，而這些機床甚至連西方國家也還沒研制出來。
但光刻膠的合成并不需要復雜的設備，有了配方和工藝，他是完全能夠把光刻膠制造出來的。
內容未完，下一頁繼續閱讀