海灣科技的負責人王道林也知道徐申學不懂這玩意，所以解說的時候就說的有些簡單直白：“我們的這這種光刻機，在國際技術路線上，應該算是第三代，不同于我們之前的上一代I-line光刻機采用的是接觸接近式曝光，我們這個KRF光刻機的曝光方式是掃描投影式曝光，也被稱之為掃描式光刻機。”
“而掃描曝光，也是更先進的DUV干式乃至DUV浸潤式光刻機采用的曝光方式，技術原理是一樣的！”
“通過研發這款KRF光刻機，某種意義上我們已經算是掌控了DUV光刻機的部分技術！”
“光源上，我們采用的是深紫外線光源，分辨率達到了248納米，可以用于最小制程130納米的芯片生產！”
“研發這款光刻機，進一步鍛煉了我們團隊的技術研發能力，同時也為DUV干式光刻機的研發打下了堅厚的基礎！”
“后續我們的主要工作就是進一步優秀改進現有的光刻機平臺，同時整合研發光源系統，爭取早日把DUV干式光刻機做出來！”
“在光源上我們的兄弟公司南方光學的進展還是比較順利的，他們已經對ARF光源進行前期的測試了，明年大概率就能夠搞出來初步的ARF光源系統，而我們這邊繼續研發的話，整機系統有望明年年底拿出來！”
徐申學聽罷后：“很好，繼續努力做吧，希望明年年底能看到這個DUV光刻機！”
“還是我之前說過，你們只管努力做，資金問題不用擔心，供應鏈這邊有什么欠缺報告上來，我會安排人處理！”
“只要東西做出來了，也不用擔心沒市場，集團那邊會提供充足的訂單！”
內容未完，下一頁繼續閱讀