同時更先進的193納米光源波長的光刻機，也就是用于DUV干式光刻機乃至現在最先進的DUV浸潤式光刻機上的使用的光刻膠面臨的問題要更大一些。
徐申學看過仙女山控股轉發(fā)的一些報告，說是什么現有的光刻膠材料里含有苯環(huán)結構，導致193納米波長的光源吸收太高而無法使用！
這意味著需要重新開發(fā)一種光刻膠材料，至于什么時候才能搞出來，這種材料學的問題都是玄學問題，華賽電子也給不了一個準確的時間表！
他們能夠做的就是盡可能的展開更多的研發(fā)，同時試驗更多不同的材料組合，然后才能夠搞出來。
各種特種氣體的情況也和光刻膠比較類似，低制程工藝里的特種氣體基本都能自行解決，但是用于更高工藝制程的就有些欠缺了。
第二百二十二章夸張的智云
目前仙女山控股旗下的各半導體設備以及原材料企業(yè)，在原有國內基礎工業(yè)的基礎上，搞起來130納米節(jié)點的各項基礎產業(yè)鏈問題不大，以光刻機為代表的設備，光刻膠為代表的好菜已經陸續(xù)開始商用，少數不能商用的也具備了大規(guī)模生產并應用的能力，只是問題比較多而已。
這也是智云微電子那邊可以說，在130納米工藝節(jié)點以上，已經具備了全面自產能力的緣故，因為從設備到耗材都不需要再進口，都可以在國內找到供應鏈企業(yè)提供。
但是六十五納米工藝節(jié)點的話，則是還欠缺了許多，唯一做的比較好的就是技術含量偏低的后道光刻機了，其他的基本都處于半吊子的狀態(tài)。
至于六十五納米工藝以下節(jié)點，也就是DUV浸潤式光刻機為代表的當下最先進的芯片生產線，只有后道光刻機可以自產的，其他的從設備到耗材，都得清一色進口。
這樣的芯片生產線，哪怕是智云微電子已經突破了四十五納米工藝，同時三十二納米工藝也已經在梁松以及吳德義的帶領下取得了巨大的突破，目前已經開始進行各種測試，有望在三月份的時候搞定。
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