智云微電子這邊真正的下一代工藝節點，其實是十納米工藝節點……不僅僅是智云如此，英特爾，臺積電，四星都是把下一代工藝節點放在了十納米工藝上。
目前在十納米工藝節點上，智云微電子這邊的進展還算順利，第二十一號廠主體部分都已經完成，目前還處于設備的安裝調試階段，預計明年年中就能完成工廠的準備工作，然后配合工藝部門進行十納米工藝的各種研發測試，一切順利的話，后年第一季度將會大規模量產。
再往后的話，則是七納米工藝了，這個更難一些，需要的時間也更久……畢竟這個工藝節點的話，使用DUV浸潤式光刻機來生產，就需要采用四重曝光了。
而這種先進的光刻機，ASML那邊預計要明年年初才能夠陸續向智云微電子交貨，不過一開始也就一臺，然后陸續會交付第二臺，第三臺，預計一直要到后年第一季度，才會交貨完畢。
整個交貨時間，會拉長到一年以上！
交貨期之所以拉著時間長，還是零星的一臺一臺的交貨，那是因為先進DUV浸潤式光刻機關系重大，幾大半導體廠商現在斗法的很厲害，誰也不愿意落后。
而根據徐申學和美財團那邊達成的臨時口頭協議，DUV浸潤式光刻機這東西得輪流交貨……大家都一起用！
不然就和EUV光刻機一樣，大家都沒得用！
因此ASML目前是同步向智云微電子，臺積電，英特爾，四星這四家廠商提供這種先進光刻機，而且還是一臺一臺的輪流交貨，直到初期這一批的訂單交付完畢為止！
而這款ASML那邊的先進DUV浸潤式光刻機，足以滿足四重曝光生產，能夠用來生產7納米芯片的光刻機……乃是智云微電子，同樣也是其他幾家半導體制造廠商搞七納米芯片的關鍵設備。
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