光刻機(jī)成本也只占據(jù)了晶圓廠成本的百分之二十五左右，還有百分之五十成本是其他設(shè)備構(gòu)成的。
至于非設(shè)備成本，也就是廠房以及其他亂七八糟的成本全部加起來，只有百分之二十五……這個(gè)百分之二十五的比例是比較低的，臺(tái)積電搞一家同級(jí)別的晶圓廠，非設(shè)備成本這些得占據(jù)百分之三十左右。
當(dāng)然，一家晶圓廠里，成本最貴的還是光刻機(jī)，光這一種設(shè)備就占據(jù)百分之二十五的建廠成本。
王道林對(duì)自家的DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)也是相當(dāng)自豪的：“我們的DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)，目前已經(jīng)為國(guó)內(nèi)六家客戶供貨，智云微電子已經(jīng)接收了三十臺(tái)這種光刻機(jī)，并成功應(yīng)用于產(chǎn)線上。”
“我們的HDUV-500型光刻機(jī)，在套刻精度上，三點(diǎn)五納米已經(jīng)滿足10-22納米節(jié)點(diǎn)的雙重曝光工藝需求，同時(shí)我們的雙工臺(tái)技術(shù)也有比較大的進(jìn)步，進(jìn)一步推高了生產(chǎn)效率！”
“而我們的HDUV-600型號(hào)光刻機(jī)，目前也已經(jīng)完成了樣機(jī)制造，我們正在進(jìn)行后期的各種測(cè)試環(huán)節(jié)，量產(chǎn)型號(hào)有望在明年第四季度出貨，以供應(yīng)智云微電子使用。”
“這款HDUV-600型光刻機(jī)，套刻精度達(dá)到兩點(diǎn)五納米，完全可以用來進(jìn)行四重曝光，滿足智云微電子提出的等效七納米工藝的生產(chǎn)需求！”
“目前我們?cè)贒UV光刻機(jī)領(lǐng)域的技術(shù)研發(fā)，主要也是集中在這款光刻機(jī)上！”
“除了眼前這些光刻機(jī)外，旁邊的是我們的蝕刻機(jī)，離子注入機(jī)等核心設(shè)備，也都是我們研發(fā)人員聯(lián)合國(guó)內(nèi)眾多廠家，科研所合作研發(fā)的成果，每一款設(shè)備，都是國(guó)內(nèi)頂級(jí)工業(yè)技術(shù)的完美體現(xiàn)！”
說實(shí)話，這些設(shè)備如何完美體現(xiàn)國(guó)內(nèi)的頂級(jí)工業(yè)技術(shù)，徐申學(xué)不知道……
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