“整體進度上來說，還是比較快的！”
“而目前，我們也已經利用已經到貨的光刻機進行技術驗證，預計年底就能夠完成技術驗證！”
工藝節點的技術驗證，只是單純驗證技術路線的可行性，證明能夠生產該工藝節點的芯片，然而完成了技術驗證后，后頭其實還有一大堆的問題，比如提升良率就是個非常巨大的問題，往往需要比較長的時間來進行逐步的改進。
智云微電子，實際上在今年第一季度就已經完成了十納米工藝的技術驗證，但是到目前為止依舊不具備量產的能力……良率太低，成本太高，不具備量產的條件。
工藝節點的推進是非常復雜的，除了硬件設施，也就是光刻機以及其他各類核心設備的參數要達標外，還需要各類耗材的技術參數也代表，比如光刻膠，特殊氣體等等。
然后各類工序也需要設計，達到最理想的情況，提升產能，提升良率。
而這些并不是說有了光刻機就能搞的，還得需要大量的技術工作。
尤其是等效七納米工藝這種，直接奔著現有光刻機的極限能力去的工藝，搞起來難度非常大的。
畢竟HDUV-600光刻機或者是ASML的NXT1980光刻機，它們只是理論上具備通過四重曝光的方式，來達到等效七納米工藝的水準。
但是如何達到這個理論設計的極限，還需要晶圓廠付出巨大的努力。
搞工藝，也不是那么簡單的事。
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