明面的S17手機，還有PC產品則是才使用10納米工藝。
后年的S18手機，則是采用7納米工藝。
一年一個臺階，持續(xù)進步，提升S系列手機的性能，并維持S系列手機的性能優(yōu)勢。
至于大后年的話，估計還是繼續(xù)使用7納米工藝……因為智云微電子這邊的等效5納米工藝，至今都還沒有什么太好的辦法。
現有的HDUV-600浸潤式光刻機搞個七納米就已經到了極限，可搞不了等效五納米工藝了……這款光刻機，其實用來生產十納米或十四/十二納米工藝節(jié)點才是最適合的。
而等效五納米的話，如果使用DUV浸潤式光刻機來生產，至少得使用八重曝光，對套刻精度的要求是非常高的，套刻精度最少也得一點五納米。
而正在研發(fā)當中，預計要兩年后才能夠出貨的HDUV-700光刻機，其套刻精度也才兩納米而已，根本達不到技術要求。
至于一點五納米的套刻精度，有這技術直接搞EUV光刻機就完事了，費那勁搞什么DUV浸潤式光刻機啊。
畢竟海灣科技里正在研發(fā)當中的第一代EUV光刻機，規(guī)劃的套刻精度也才兩納米；處于項目早期階段，不知道什么時候才能完善的第二代EUV光刻機才一點五納米的套刻精度。
一點五納米的套刻精度，這還早著呢。
這也意味著，等突破等效七納米工藝之后，可能好幾年里智云微電子都無法進一步往下突破工藝了，只能是搞各種七納米工藝的改進版。
內容未完，下一頁繼續(xù)閱讀