現在的半導體領域里，最頂級的工藝就是等效七納米工藝，或者說英特爾口中的十納米工藝……
兩者其實都是一個東西，都是屬于晶體管密度在每平方毫米一億個左右的邏輯芯片工藝。
采用DUV浸潤式光刻機四重曝光技術，或者采用分辨率達到13納米的EUV光刻機一次曝光技術。
而直到目前，依舊只有智云微電子和臺積電解決了七納米工藝的技術問題并進行大規模量產，四星以及英特爾都做不到，至于其他半導體制造廠商就更不用說了，他們連十納米工藝都做不到，十四納米工藝技術都還很勉強呢。
也就是說，當代的全球范圍內的七納米工藝產能，是極為有限的，并且七納米工藝的芯片更復雜，設計難度更高，流片成本更高，生產成本也更高！
因為投資大，技術難度大，成本高等一系列的問題，也導致了目前只有頂級的手機SOC芯片采用這一工藝，此外就是智云集團自己的一系列算力芯片了。
唯一的例外，就是威智科技那邊為了在服務器GPU領域里撬開市場，大膽采用了七納米工藝，搞了一個服務器GPU：WZ320芯片出來。
此外，暫時來說就沒有其他的七納米工藝芯片了。
太貴，都用不起！
這也是智云微電子繼續折騰十二納米工藝，第二代十納米工藝的緣故……當下很多芯片其實用不上七納米工藝這么昂貴的先進工藝，有個十二納米工藝就很充分了，高端產品也只是用十納米工藝而已。
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