徐申學對智云微電子的發展規劃，還是相當滿意的，他不管丁成軍他們怎么搞，總之他就要看到最頂級，最先進的半導體工藝。
現在是七納米，明年或者后年是五納米。
而未來則是三納米，甚至兩納米。
因為這背后，還有AI/APO系列為代表的各類算力芯片，S系列為代表的手機SOC都需要用到這些先進工藝呢。
視察的時候，徐申學還首次看到了采用第二代七納米工藝，也就是HEUV-300B這種EUV光刻機生產的S1003芯片。
各種性能參數比使用第一代七納米工藝的S903強了不少。
按照丁成軍的說法就是，第二代七納米工藝對比第一代七納米工藝，可以提升百分之三十的性能。
如果維持性能不變，則是可以降低百分之二十的功耗。
而制造成本上，第二代七納米工藝甚至比第一代納米工藝還要更低……
因為第二代納米工藝采用EUV光刻機，生產效率更高，良率也更高。
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