“對比第一代量產(chǎn)型的HEUV-300B光刻機，我們的HEUV-300C光刻機，擁有更高的套刻精度，達到了一點五納米，可以滿足更高精度的芯片生產(chǎn)需求，目前能夠支持二十層的EUV曝光，可以非常良好的支持等效五納米工藝的芯片生產(chǎn)，乃至支持未來的等效三納米工藝的生產(chǎn)！”
“并且光源功率也更高，生產(chǎn)效率也更高，其生產(chǎn)效率從HEUV-300B型號的每小時一百二十片，提升到了HEUV-300C的每小時一百八十片。”
“這將會帶來先進工藝芯片的制造成本的整體下降，并進一步提升產(chǎn)能！”
“雖然這款HEUV-300C光刻機的成本更貴，售價也更貴，但是我們認為這款光刻機擁有更高的性價比！”
一旁的智云微電子的丁成軍道：“不錯，我們智云微電子將會采用這款最新的HEUV-300C光刻機量產(chǎn)等效五納米工藝的芯片，后續(xù)的的等效三納米工藝的前期生產(chǎn)，也將會使用這一款光刻機！”
“盡管HEUV-300B型號的光刻機，同樣能夠生產(chǎn)等效五納米工藝的芯片，但是因為等效五納米工藝芯片所需要層數(shù)更多，使用HEUV-300B光刻機的話，芯片良率不太行，生產(chǎn)效率不太行，成本過于高昂，所以我們已經(jīng)暫停了使用這款光刻機制造五納米工藝芯片的計劃！”
第一代的HEUV-300B光刻機的每小時生產(chǎn)效率只有一百二十片，對比HEUV-300C的每小時一百八十片差了很多，再加上套刻精度的差距，最后導致用來生產(chǎn)五納米芯片的話，就有些力不從心。
不是說不行，而是劃不來！
丁成軍繼續(xù)道：“我們在建以及規(guī)劃建設的多家晶圓廠，已經(jīng)擬定采用這款HEUV-300C光刻機了，這種建造出來的晶圓廠，不僅僅能夠用來制造五納米工藝的芯片，我們也在想辦法進行持續(xù)的技術升級改進后，讓這種光刻機也是能夠用來生產(chǎn)等效三納米工藝的芯片！”
“如此能夠讓先機半導體工廠的高利潤使用壽命更長！”
建設先進半導體工廠，是要考慮到未來的升級潛力，同時也要盡可能的適應更先進的工藝的……畢竟現(xiàn)在的新半導體工廠太貴了。
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