再往下的話，就需要套刻精度更高，性能更強悍的下一代EUV采用雙重曝光、乃至四重曝光來生產了！
智云集團里技術研發階段的等效三納米工藝，預計就是采用下一代EUV光刻機，采用雙重曝光工藝，而之一代工藝的金屬間隔設計指標是二十三納米。
再往后所謂的等效二納米、一納米，零點幾納米之類的工藝，則是繼續往下縮小這個金屬間隔，而且還是一納米，兩納米的小幅度的緩慢提升！
智云微電子預計到二十年后的工藝，金屬間隔應該能縮小到十二納米左右……至于實打實的把晶體管的間距做到三納米的程度，別說二十年了，四十年估計都夠嗆！
而且四十年時間的話……智云集團估計都能把量子計算機給弄到大規模民用化了，到時候對高性能電子芯片的需求將會大幅度降低。
不過值得注意的是，量子計算機這東西，在很多特定領域里非常好用，比如人工智能所需求的并行計算領域里就非常好用，但是目前而言在通用計算領域里目前還不太行……
目前以及未來，智云集團的LC系列超導量子計算機，其核心應用是用來搞人工智能，以訓練、運行人工智能……即便如此，其實還需要傳統電子計算機進行配合使用。
未來的話，智云集團希望能夠發展出來算力更大，同時更加小型化的量子計算機，能夠作為普及型的生產工具使用。
但是這需要相當漫長的時間來持續推動技術的進步。
所以量子計算機在未來相當漫長的時間里，是不可能全面取代電子計算機的。
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