W1106芯片以及為華威代工的手機SOC，S1003A等芯片其實都是用的這個第一代七納米工藝……這個第一代七納米工藝的產能相對大一些，負責該工藝的第二十五廠，一開始建設了兩條產線，加起來每個月有八萬片的產能。
后續因為產能緊張，EUV光刻機供貨量又有限，所以智云微電子干脆在這個工廠里，額外增設了大量設備，尤其是HDUV-600E，把該工藝的產能進一步擴充到了每月十萬片。
因為七納米工藝限制產能的核心，不是其他設備，而是最頂級的光刻機，只要頂級光刻機到位了，其實后面的都容易搞了。
而HDUV-600系列的光刻機，海灣科技那邊生產好幾年了，技術成熟，產量也大，所以采購起來就容易……不像是EUV光刻機，產量就那么點，而且還要和儲存芯片半導體工廠分，根本不夠用！
EUV光刻機，可不僅僅是用來制造七納米，五納米工藝的邏輯芯片的……智云儲存設計的新一代內存芯片以及閃存芯片，尤其是新一代的高帶寬顯存也要用EUV光刻機來生產…而這東西可是搭配APO5000顯卡的，沒有這種EUV光刻機生產的高帶寬顯存，也沒辦法生產APO5000顯卡。
所以智云微電子那邊也不可能都把EUV光刻機都用來生產邏輯芯片，還要給一部分EUV光刻機分配給儲存芯片制造工廠，用來生產頂級的內存以及閃存！
相對比EUV光刻機產能很小，HDUV-600系列的DUV浸潤式光刻機，產量就大多了，采購起來更容易，也更快到貨！
這也導致了第一代七納米工藝擴充起來更加容易一些……雖然一開始這個工藝只是過渡工藝，但是因為EUV光刻機內的短期產能低，而市場對七納米工藝的需求又大，沒辦法，智云微電子只能繼續擴充第一代七納米工藝……性價比低一些，總比沒產能強！
第二代七納米工藝的話，之前只有S1003B芯片在用，去年冬天的時候才逐步用來生產自家的AI6000B顯卡以及ZY38B芯片……因為產能實在太低了……
19年春的時候，產能只有每月兩萬片，然后產能逐步擴張，等到了冬天的時候，才把產能提升到每月五萬片，目前只用來生產S1003B芯片以及部分自用的AI6000B顯卡……AI6000B顯卡，也是采用I6000顯卡的同款GPU核心，只不過加工的工藝更好，所以性能也更好一些。
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