當(dāng)時，人們所暢想的是，海灣科技繼續(xù)努力，爭取三年一個臺階，在解決28納米工藝之后，三年內(nèi)解決可以進行雙重曝光，能夠把工藝下探到10-22納米工藝的光刻機。
至于更進一步，甚至能夠進行四重曝光的光刻機，樂觀估計，五年內(nèi)能夠解決就是巨大的勝利。
但是讓人沒有想到的是，海灣科技在突破了DUV浸潤式光刻機的關(guān)鍵技術(shù)后，在小型號的快速迭代上進展迅速，幾乎一年一個臺階。
去年推出HDUV-500型光刻機，把套刻精度做到了三點五納米，實現(xiàn)了雙重曝光的基本需求，可以用來做十四納米工藝的芯片，一開始的性能上基本和NXT1965相當(dāng)，但是不太成熟。
后來海灣科技推出了升級型號HDUV-500A，雖然工作臺產(chǎn)能一樣，不過性能更好，更穩(wěn)定，這款光刻機的性能除了產(chǎn)能低一些，其他性能指標(biāo)基本上和NXT1970持平。
而智云微電子以及隔壁的中芯，還有國內(nèi)其他一些芯片廠商大規(guī)模采購的海灣科技的先進光刻機，其實都不是HDUV-500型號，而是HDUV-500A型。
去年搞出來500型號就已經(jīng)夠夸張的了，結(jié)果海灣科技愣是在今年六月份的時候，就交付了更新一代的HDUV-600型，把套刻精度直接拉到了二點五納米的水準(zhǔn)。
這一型號的核心性能水準(zhǔn)，已經(jīng)和NXT1980相當(dāng)了……雖然還是有著老毛病，因為工作臺不太行，所以生產(chǎn)效率低，后續(xù)的維護也會比較麻煩，但是還是太嚇人了。
而要知道，雖然去年ASML就已經(jīng)搞出來了NXT1980光刻機，但實際上大規(guī)模出貨也是在今年年初而已。
而海灣科技的同級別光刻機大規(guī)模出貨，則是遲了半年左右！
這意味著，雙方之間的差距從之前的十多年，再到四五年，然后又縮小到了現(xiàn)在的半年。
內(nèi)容未完，下一頁繼續(xù)閱讀