此外還有3DNAND的閃存工藝，也用來生產(chǎn)智云的閃存顆粒。
在內(nèi)存領(lǐng)域里，智云微電子的工藝水平已經(jīng)穩(wěn)定生產(chǎn)三十納米工藝，并且二十五納米工藝的試生產(chǎn)也已經(jīng)獲得成功，正在開啟二十五納米工藝內(nèi)存的量產(chǎn)計劃。
在邏輯芯片以及儲存芯片這兩大核心領(lǐng)域里，智云微電子的技術(shù)水準都是能夠跟上世界第一梯隊的。
而這些在徐申學看來，都是自己這幾年辛辛苦苦播種之后結(jié)出來的果實！
唯一讓徐申學不滿，乃至擔憂的是，結(jié)出芯片果實的這些先進晶圓廠，使用的各類設(shè)備以及耗材，絕大部分都是進口貨，非常容易被卡脖子。
比如典型設(shè)備光刻機，清一色的是荷蘭ASML的DUV浸潤式光刻機，目前也只有該公司生產(chǎn)的DUV浸潤式光刻機，才能夠滿足三十二納米/二十納米工藝的芯片生產(chǎn)。
海灣科技研發(fā)出來的HL-ARF6508型DUV干式光刻機，可沒辦法干這個活！
哪怕采用雙重曝光技術(shù)也非常困難，這里頭還有著套刻精度的要求，海灣科技的第一臺DUV干式光刻機，套刻精度只有八納米，而根據(jù)海灣科技方面的技術(shù)研究，想要搞雙重曝光的話，至少也得5.6納米的套刻精度，這樣才能夠通過雙重曝光做出來四十納米的工藝。
很可惜，目前的海灣科技的光刻機套刻精度，還達不到這個程度。
就算能達到，也沒啥實際用處。
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