“技術(shù)部門認為，如果要實現(xiàn)比等效七納米更低的工藝，最好還是使用光源波長更短的EUV光刻機，繼續(xù)使用DUV浸潤式光刻機的話，在成本上很難接受，商業(yè)化比較困難。”
“當然，現(xiàn)在沒有EUV光刻機，時間也太早，我們暫時不談比七納米更小的未來工藝，我們目前聚焦的還是十八納米，十四納米，十納米以及未來七納米這四個可以基于現(xiàn)有DUV浸潤式光刻機生產(chǎn)的工藝節(jié)點。”
“基于工藝技術(shù)的快速進步，我們也需要做好相應(yīng)的先進生產(chǎn)線的提前準備工作，因此新項目的投資建設(shè)是必須的。”
“畢竟工藝的提升，和芯片工廠的技術(shù)提升是密不可分的，也是相輔相成的，不然光有工藝沒有工廠也無濟于事?！?br>
對這個說法，徐申學在內(nèi)的其他人也表示同意，這個虧他們在今年算是吃上了，決不能明年繼續(xù)吃這種虧。
智云微電子十八納米工藝的進度落后，除了工藝技術(shù)本身難度大有關(guān)系外，也和工廠那邊的項目進度跟不上有關(guān)系。
智云微電子總部基地里，預(yù)定用于十八納米工藝的深城基地十七號工廠，13年十月份才完成設(shè)備安裝工作，然后后續(xù)的收尾調(diào)試又用了接近三個月。
一直到今年一月份才開始配合十八納米工藝項目組，對十八納米工藝進行各種測試調(diào)整工作，二月份，也就是這個月才開始正式試產(chǎn)，但是良率不太行，想要大規(guī)模量產(chǎn)還要等到六月份后。
工藝節(jié)點的推進，從研發(fā)工藝節(jié)點技術(shù)，再到調(diào)整測試，試產(chǎn)，提升良率，然后大規(guī)模量產(chǎn)，每一個階段都是需要耗費時間的。
如果前面幾個步驟拖延了太多時間的話，后面想要追趕也很難追趕。
內(nèi)容未完，下一頁繼續(xù)閱讀