徐申學：“這是大好事，回頭等試產測試的時候記得通知我，我回頭也去看看！”
光刻機的研發，其實是一個比較漫長的過程，并不是說樣機搞出來就能用了。
海灣科技這邊在去年十月份的時候，實際上就已經搞出來了第一臺測試樣機，但是這種樣機只能用于一些子系統的技術驗證，測試各種技術指標，看看造出來的產品能不能用。
距離實際投產還遠著呢。
經過了持續半年的技術驗證，調整改進，直到今年四月份，才算是搞出來了第一臺真正意義上的樣機，理論上可以用于生產的那種!
但也只是理論上！
實際上搞出來這種測試樣機后，還需要進行反復的各種測試，調整，同時還需要晶圓廠方面的各種測試反饋，這個過程往往需要大半年甚至一年以上的時間。
而這，說的還是DUV浸潤式光刻機這種成熟的，有著可以借鑒的光刻機。
如果是EUV光刻機，從測試樣機到量產，得好多年呢。
ASML在幾年前就已經向四星交付了第一代EUV光刻機，后續也向臺積電交付了研究測試樣機，這種交付的EUV光刻機，實際上就是研究測試用的，是沒有辦法用于芯片生產的，
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