哪怕再怎么遮掩，糊弄外人，但是自己心里都知道，這東西就是對著ASML的光刻機抄的。
此時王道林道：“不過我們這邊也在持續進行技術研發，爭取早日繞過這些專利限制，讓我們的光刻機可以光明正大的出現在大眾視野里，到時候，我們就推動我們的DUV浸潤式光刻機走向海外，出口創匯去！”
徐申學笑呵呵道：“有這個信心很好。”
王道林一邊和徐申學說著話的時候，前頭的無塵車間里的第一臺國產DUV浸潤式光刻機也正在進行著試生產。
邊上的丁成軍也在說著這一次的試產規劃：“目前我們正在試產的芯片，是集團里一種采用四十納米工藝的邏輯芯片，這一次試產的目的主要還是看良率，效率這些性能指標，至于光刻精度的話，之前我們已經進行了大量的測試，是完全能夠滿足我們的四十納米工藝的光刻機精度的！”
“并且我們的光刻機也具備了二十八納米工藝所需要的套刻精度，不過在一些技術指標上還有所欠缺，現階段采用二十八納米工藝的話，會導致生產成本的比較大幅度的上漲。”
“甚至理論上，我們這臺光刻機，也能勉強用于十八納米甚至十四納米工藝的生產，只是成本就太高了，不具備實際商業價值！”
“目前我們微電子這邊的規劃是，前期采購的這款HDUV-400型號，主要還是用于四十五、四十納米乃至二十八納米工藝的邏輯芯片，或者是部分四十納米、三十納米、二十五納米工藝的儲存芯片的生產！”
“這幾個工藝節點上我們的訂單也非常多，產能需求量大，足以給我們的400型光刻機起步訂單了！”
“但前提是能夠滿足性能需求，不是勉強能用，而是要能大規模成熟使用，并成本可控，具備商業價值！”
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