這個是典型的過渡工藝，智云微電子也好，智云半導體也好，都沒有打算在這一領域里投入太大的資源，等到S系列芯片的產能遷移更先進的等效七納米工藝后，這一工藝節點將會用于生產其他算力芯片，包括更先進的APO顯卡芯片等，也不用擔心產能浪費。
智云集團真正投入重大資源的乃是等效七納米工藝！
丁成軍這個時候也介紹道：“我們智云微電子在等效七納米工藝里投入甚大，除了原來的第二十五廠里的兩條產線，規劃產能每月五萬片外。”
“我們智云微電子去年底又正式啟動了第二十八廠計劃，計劃在深城基地里建設一座月產能達到五萬片，工藝水平達到等效七納米工藝的芯片工廠，預計投資達到七十多億美元。”
“最終達到每月十萬片的等效七納米工藝，用于滿足S系列芯片，W系列芯片以及更新一代的各類AI芯片的生產！”
“不過采用DUV浸潤式光刻機的等效七納米工藝產能規劃，到每月十萬片已經是差不到到極限了，主要是因為采用DUV浸潤式光刻機生產等效七納米工藝芯片，成本將會非常昂貴，除了S系列芯片，W系列芯片還有AI芯片外，其他各類芯片其實是無法承擔如此昂貴的成本的。”
“盲目使用DUV浸潤式光刻機擴充等效七納米工藝的產能，未來可能會導致產能利用率不足！”
“我們在等效七納米工藝的產能規劃上，更多的還是期望與海灣科技那邊的EUV光刻機的技術突破。”
“海灣科技那邊，已經開始制造第一臺EUV光刻機的原型機了，其設計參數就是用來制造等效七納米工藝的芯片，雖然目前還是原型機階段，但是預計三年內我們就能夠拿到量產型號，然后用于等效七納米工藝的大規模量產！”
“到那個時候，等效七納米工藝的成本才能大幅度降低，用于其他常規先進芯片的生產！”
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