就算是華夏能夠搞出來，除了徐申學以及相關投資機構持續多年的重金投入，教育體系持續多年培養的高素質，龐大數量的頂級理工科人才外……也極大的依賴了徐申學的科研系統。
沒有這個科研系統，也不可能在這么短的時間里搞出來！
畢竟西方體系是通過了幾十年的深厚技術積累，尤其是在材料以及精密加工領域的深厚技術積累。
而國內在缺乏這種先進工業底蘊的情況下，想要短時間內追上來并不容易。
必須需要大量的頂級人才……而徐申學的科研系統恰好就能夠批量的增強這些頂級人才的能力。
有句話怎么說的來著……普通人的數十年積累，也不如天才的靈光一閃！
而在這套HEUV-300C的基礎上，海灣科技那邊正在積極推進改進型號，也就是HEUV-300D型光刻機……這將會是這一系列光刻機的終極改進型號，其最大的性能特征就是把套刻精度提升到一納米，用以滿足EUV光刻機雙重曝光，也就是等效三納米以下工藝的大規模生產要求。
簡單來說，其效果就是能夠大幅度提升EUV雙重曝光的良率，降低等效三納米乃至未來等效二納米等先進芯片的成本。
現在的HEUV-300C光刻機，雖然在技術指標上能夠生產等效三納米工藝的芯片，但是良率不高，成本昂貴。
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