8X50芯片的性能在當下，依舊是足以進入前五。
而六十五納米的支撐，是可以使用DUV干式光刻機制造的
再往下的各種內(nèi)存以及其他類型的芯片，也是使用六十五納米到一百三十納米之間的工藝制造的。
這種級別的制程工藝，別說在當下了，就算是到了十幾年后，依舊有相當大一部分市場。
這意味著DUV干式光刻機在十幾年后依舊有市場……海灣科技搞DUV干式光刻機，市場前景還是有不小的。
海灣科技也不僅僅有比較先進的DUV干式光刻機項目，其實也有看似更落后，用248納米波長光源，最低制程可以做到一百三十納米工藝的KRF光刻機。
甚至連波長365納米，最低制程只有三百五十納米的i-line''光刻機項目都有。
因為哪怕到了二十年代中期了，更低技術KRF光刻機，甚至i-line光刻機依舊有著廣泛的市場需求和價值！
22年的荷蘭ASML光刻機出貨上，最頂級的EUV光刻機是四十臺，ARFI（DUV浸潤式）是八十一臺，ARF(DUV干式)二十八臺。
然后看似已經(jīng)落后的第三代KRF光刻機，出貨量則是驚人的一百五十一臺。
甚至第二代的I-line光刻機，出貨量都有四十五臺。
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