以上說的可是最頂級的光刻機廠商荷蘭ASML。
然后還有尼康，他們的ARFI出貨四臺，ARF四臺，KRF七臺，i-line十五臺。
然后是佳能，KRF五十一臺，i-line一百二十五臺。
看似落后的第二代i-line光刻機以及第三代Krf光刻機，到了二十年代出貨量依舊非常大。
而且這說的是前道光刻機，不包括后道光刻機，后道光刻機的工藝制程普遍更低，出貨量同樣巨大。
為什么會這樣？
因為拋開手機和電腦以及一些智能終端，其實普通設(shè)備所需的芯片，對制程要求沒那么高。
廣泛應(yīng)用各行各業(yè)的微控制器、電力電子器件、電信電路、汽車電子以及許多其他器件，因為技術(shù)和成本的原因，基本上65-350nm就夠用了，而且這部分低制程工藝生產(chǎn)的產(chǎn)品，占市場的60%以上！
俄羅斯在戰(zhàn)爭期間以傾國之力發(fā)展出來的三百五十納米制程的光刻機，其實就是屬于第二代的技術(shù)水平……而這已經(jīng)足以維持其戰(zhàn)爭，基本社會工業(yè)運轉(zhuǎn)的需求。
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當(dāng)然，對于絕大部分行業(yè)而言，芯片工藝肯定越高越好，兩三百納米是勉強夠用，但是六十五納米更好用不是。
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