“如果利用多重曝光技術(shù)，193納米分辨率的浸潤式光刻機(jī)，理論上甚至能夠做到等效十多納米乃至更低等效工藝的芯片……只不過工藝過于復(fù)雜，目前還沒有公司在這一技術(shù)領(lǐng)域獲得過成功。”
“實(shí)際上，使用多重曝光技術(shù)的話，遠(yuǎn)不如直接使用光源分辨率更小的EUV光刻機(jī)來的簡單直接，成本還低?！?br>
徐申學(xué)聽了后，回憶了一番自己所記得的一些芯片方面的信息，但是能記起來的也不多……也就是什么十四納米，七納米，五納米這些。
他并不知道，二十八納米以及往上的工藝，計(jì)算芯片工藝的時(shí)候采用的是柵極長度。
但是到了二十八納米之下，芯片工藝計(jì)算的方式是‘半間距’，算出來的工藝是等效工藝，比如十四納米工藝……這其實(shí)是等效工藝！
而且不同的芯片代工廠因?yàn)楣に嚨牟町惢蛘郀I銷的需求，往往會(huì)計(jì)算等效工藝的公式還不一樣，很容易就讓人迷惑了。
比如臺積電七納米和英特爾10納米……這倆玩意雖然工藝不一樣，稱呼不一樣，但實(shí)際上性能都差不多，可以簡單粗暴的理解為同一技術(shù)水準(zhǔn)的東西。
但是徐申學(xué)卻是知道：臺積電等效七納米或英特爾等效十納米工藝的話，其實(shí)已經(jīng)可以滿足絕大部分芯片的需求了……
只有最頂級的電腦CPU，顯卡，手機(jī)SOC以及了未來的AI芯片，才會(huì)需要更低的等效五納米，乃至等效三納米，兩納米之類的工藝……而這些工藝就需要更先進(jìn)的EUV光刻機(jī)了。
這東西人家國外也剛弄出來，一時(shí)半會(huì)的也買不到……更別說這玩意大概率因?yàn)榧夹g(shù)封鎖難以購買。
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