DUV干式光刻機(jī)，編號(hào)為HDUV-400系列。
DUV浸潤(rùn)式光刻機(jī)，支持雙重曝光的則是為HDUV-500系列，而支持四重曝光的則是HDUV-600系列。
EUV光刻機(jī)，因?yàn)楫?dāng)年徐申學(xué)一心奔著EUV光刻機(jī)去，立項(xiàng)非常早，因此比DUV光刻機(jī)還要更早一些，所以老早就拿到了HEUV-300的系列編號(hào)。
然后前幾年立項(xiàng)發(fā)展的納米光刻機(jī)，則是用掉了HNIL-700的編號(hào)
而新一代的大數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)，則是采用了新的HEUV-800系列編號(hào)。
這種新一代的HEUV-800光刻機(jī)，估計(jì)也就這兩年內(nèi)搞出來(lái)原型機(jī)，至于什么時(shí)候能實(shí)際應(yīng)用，還要看后續(xù)研發(fā)情況……但是短時(shí)間內(nèi)夠嗆，因?yàn)檫@東西太貴，還需要繼續(xù)技術(shù)攻關(guān)，把成本拉下來(lái)，尤其是制造成本給拉下來(lái)，要不然半導(dǎo)體制造工廠使用成本過(guò)于高昂，難以為繼。
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內(nèi)存芯片的制造，其實(shí)和邏輯芯片也是有點(diǎn)類似的，也嚴(yán)重依賴先進(jìn)光刻機(jī)的性能。
有了HEUV-300C光刻機(jī)，才有了10D工藝的誕生，目前智云微電子旗下的工程師們，正在加班加點(diǎn)解決10D工藝的大規(guī)模量產(chǎn)問(wèn)題，不出意外的話，今年秋天左右，第一塊采用10D工藝的內(nèi)存芯片就會(huì)面世，明年春天左右，就能夠大規(guī)模出貨！
到時(shí)候，智云集團(tuán)旗下的智云儲(chǔ)存，將會(huì)在全球范圍內(nèi)，再一次掀起高端內(nèi)存領(lǐng)域的戰(zhàn)爭(zhēng)……
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