怎么辦？換個方向進(jìn)一步縮小光刻機(jī)的極限金屬間隔！
光刻機(jī)里，影響光刻精度的參數(shù)有好幾個，其他幾種在DUV光刻機(jī)時代基本已經(jīng)到極限了，EUV光刻機(jī)則是使用縮小波長的方式來獲得技術(shù)進(jìn)步。
而現(xiàn)在EUV的光源波長技術(shù)路線也差不多玩到頭后，剩下最后一個可以提升空間的就只有‘NA數(shù)值孔徑’這么一個參數(shù)了。
如HEUV-300系列光刻機(jī)里，數(shù)值孔徑都是統(tǒng)一的0.33！
現(xiàn)在海灣科技那邊的下一代光刻機(jī)，就是打算在數(shù)值孔徑上做文章，提升數(shù)值孔徑，比如放大到0.55甚至更大，進(jìn)而獲得更小的金屬間隔。
實(shí)現(xiàn)單次曝光就制造十六納米以下甚至更小的金屬線寬！
該計(jì)劃也就是海灣科技里的HEUV-800光刻機(jī)，一種大數(shù)值孔徑EUV光刻機(jī)。
海灣科技的光刻機(jī)，其產(chǎn)品編號都是統(tǒng)一有規(guī)律的。
i線光刻機(jī)，編號為HI-100系列……
KRF光刻機(jī)，編號為HKRF-200系列
內(nèi)容未完，下一頁繼續(xù)閱讀