而四星那邊，則是之前被智云半導體挖走了梁松教授，沒有頂級人才的協助下他們搞起來先進工藝也很難，現在還在十四納米工藝里打轉。
同時，這兩家半導體廠商，現在也開始指望用EUV光刻機搞后續的七納米工藝……用DUV浸潤式光刻機玩四重曝光，然后搞等效七納米，太尼瑪難了。
所以，DUV浸潤式光刻機受限于本身的分辨率限制，別說搞等效五納米了，就算是用來做等效七納米工藝，也是千難萬難……也不是搞不了，而是良率太低了，進而導致芯片成本暴漲。
而芯片可是一個非常講究性價比的東西，你性能沒提升多少，但是成本暴漲好幾倍，這是沒有市場價值可言的。
到了等效七納米工藝這個階段，其實就需要EUV光刻機了……因為它的分辨率更低，哪怕是單次曝光也能夠達到DUV浸潤式光刻機四重曝光的精度……這意味著什么？
省錢啊！
哪怕EUV光刻機更貴，生產效率更低，但是因為不需要四重曝光就能生產等效七納米乃至五納米工藝的芯片，因此生產出來的等效七納米，五納米工藝的芯片，其成本依舊低于DUV浸潤式光刻機。
當然，EUV光刻機的潛力更大，后續還能夠生產性能更好的芯片，這也是現在的DUV浸潤式光刻機所無法做到的。
比如等到未來，芯片工藝技術進一步發展，芯片的半金屬間距進一步提升到四十多納米、三十多納米，甚至二十多納米、十多納米的時候……DUV浸潤式光刻機是無論如何都做不到的，這都和工藝沒啥關系，而是物理極限就擺在這里，不能忽視基本的物理規律啊！
七納米和五納米階段省錢，性價比高。
等效三納米，二納米，一點五納米，一納米階段則是硬需求……沒它就造不了。
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