基于智云微電子的龐大需求以及國內其他半導體制造廠商，如中芯，北微等廠商的需求，未來這款光刻機的需求量會持續很多年，銷量不會低的。
再加上雖然性能落后一些，但是價格也更低，適合生產成熟工藝的HDUV-500以及HDUV-400。
三款HDUV系列光刻機一起，承擔起來了海藍科技光刻機項目的主要營收以及利潤來源，也承擔起來了華夏的半導體制造業的核心設備的重任。
當然，現在的DUV浸潤式光刻機已經不是什么卡脖子，也不是前沿頂級的技術了，目前徐申學和老美那幾家財團競爭的是EUV光刻機為核心的下一代半導體制造技術。
以EUV光刻機為核心的下一代半導體制造技術，將會用于等效七納米工藝以及五納米乃至更低工藝節點的未來邏輯芯片制造上。
同樣在儲存芯片上，未來想要繼續往下進行技術突破，也需要依靠分辨率更小的EUV光刻機。
目前智云微電子旗下的頂級內存生產工藝‘10B’工藝，實際工藝節點是十六納米……而這個工藝節點已經逼近了HDUV-600B型光刻機的物理極限。
在采用EUV光刻機之前，已經很難再往下進行技術突破了……
未來的預定的10C工藝以及10D工藝，都是需要采用EUV光刻機來支撐的。
同樣的閃存芯片領域也同樣如此，目前智云微電子旗下制造閃存的頂級工藝，也是使用的HDUV-600B光刻機，其手機產品將會在今年隨著新一代的S18手機推向市場。
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