而下一代的工藝技術同樣需要EUV光刻機的支撐……當然，閃存工藝相對來說還可以變通一二，可以通過堆迭更多的層數來減少對工藝制程的需求，所以哪怕沒有EUV光刻機，其實也能夠生產更多層數的閃存芯片！
但是如果能夠有更多層數的同時，還能夠縮小晶體管的尺寸以及間隔，來一個同時加強，豈不是更好？
邏輯芯片、內存芯片以及閃存芯片，這三種芯片的性能強弱，都是和光刻機的技術水準息息相關的。
而讓徐申學慶幸的是，目前海灣科技的EUV光刻機項目推進順利。
現在已經向智云微電子交付了第二臺實驗機，而接下來的各項測試以及研發(fā)工作如果順利的話，那么今年秋季左右，海灣科技就能向智云微電子開始交付量產機型，大概明年智云微電子就能利用EUV光刻機生產等效七納米工藝的芯片。
當然，說的都是一切順利的情況下，如果有些環(huán)節(jié)里稍微有些拖延，那么就會出現延遲，那么等到后年才突入量產也是很正常的事。
不過也不用太擔心，ASML的EUV光刻機的技術進度以及臺積電的EUV光刻機的各項試驗測試工作雖然更快一些，但是依舊需要時間，明年大概率都搞不定……之前那些年銀河安保的工作做的還是很到位，硬生生的把對面的EUV光刻機的技術推進推遲了好幾年。
如今雙方正式在光刻機領域里結束了沖突，但是他們想要恢復并繼續(xù)推進技術研發(fā)進度也不是那么容易的事。
綜合起來，雙方在EUV光刻機領域里的進度，其實是半斤八兩，都差不多……而這，其實也是雙方能夠達成協議的核心原因。
既然都差不多，半斤八兩了，還那打個屁，拍拍屁股各自回家算了，打架也很花錢的好吧……銀河保安每年花在光刻機領域里的行動經費也不是小數目。
內容未完，下一頁繼續(xù)閱讀