當然，為了宣傳，智云集團那邊特地在新SOC上用了個四納米工藝的名頭，號稱所謂的N4工藝。
但實際上這個N4工藝就是五納米工藝的低功耗版本，有提升，但是不大。
用現在的EUV光刻機單次曝光生產的五納米工藝，基本上已經到了物理極限了，已經沒辦法在工藝本身上再進行縮小尺寸，只能是在晶體管形狀上想辦法，盡可能的提升晶體管密度或降低功耗。
這個四納米工藝，就是屬于晶體管密度不變，但是功耗稍微降低了一些。
但是，這種技術詳情，就沒必要對外界普通人解釋了，反正對外宣傳就是說四納米工藝。
不僅僅智云集團這么干，其實臺積電，四星這兩家也喜歡這么干，在工藝節點上很喜歡吹牛，尤其是四星那邊吹的更狠。
目前四家主流的半導體制造廠商，即英特爾、四星、臺積電、智云微電子，各家宣稱的工藝節點其實差異很大。
比如七納米工藝節點上，智云微電子的晶體管密度是一億個，四星和臺積電的在九千多萬，而英特爾的嘛，還沒搞出來……不是他們技術不行，而是他們的十納米工藝其實就已經有一億個晶體管密度了。
所以實際上，英特爾的十納米工藝，等于智云微電子和四星、臺積電的七納米工藝……從技術指標上來說，這差不多。
五納米工藝節點上，智云微電子的晶體管密度達到兩億個，臺積電的一億七千萬多點。
英特爾那邊相對應的是他們自稱的七納米工藝，不出意外應該有個一億七八千萬晶體管密度，但是還沒有搞出來。
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