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智云微電子第三十二廠，這是目前智云微電子旗下技術(shù)最先進(jìn)的邏輯芯片工廠，部署了大量當(dāng)下最頂級(jí)的各類半導(dǎo)體設(shè)備，光刻機(jī)，蝕刻機(jī)等數(shù)百種設(shè)備，全都是當(dāng)下最頂級(jí)的。
要么是屬于全球超一流的技術(shù)水平，要么就是屬于全球一流的技術(shù)水平。
在這家工廠里，根本找不到全球二流水平的設(shè)備……因?yàn)槎髟O(shè)備的水平，也不足以滿足等效五納米工藝的生產(chǎn)。
其中最為核心，也是最昂貴，同時(shí)也是技術(shù)最先進(jìn)的EUV光刻機(jī)了！
HEUV-300C光刻機(jī)，擁有一點(diǎn)五納米的套刻精度，這個(gè)精度足以讓這款光刻機(jī)在單次曝光的情況下，就能夠滿足等效七納米乃至等效五納米工藝的量產(chǎn)，并且每小時(shí)的產(chǎn)能能夠達(dá)到一百八十片，其生產(chǎn)效率大幅度優(yōu)于上一代的HEUV-300B型光刻機(jī)。
目前這款光刻機(jī)是屬于目前人類最頂級(jí)的量產(chǎn)型光刻機(jī)之一……之所以說是之一，那是因?yàn)楹商mASML也擁有同級(jí)別的光刻機(jī)。
但是這兩款光刻機(jī)鏡片技術(shù)上有巨大的差異，海灣科技在EUV光刻機(jī)上采用的是雙面反射透鏡，其特征就是大幅度減少極紫外光的吸收，大幅度增加了極紫外光能量利用率，進(jìn)而大幅度減少功耗，而且也降低了對(duì)光源的功率技術(shù)要求。
因?yàn)槲锢順O限以及目前的材料學(xué)水平，極紫外光每次被鏡片反射的時(shí)候，都會(huì)被吸收大約百分之三十左右的能量，因此反射鏡用的越少，極紫外光的能量利用率就越高。
海灣科技用的雙面反射鏡系統(tǒng)，對(duì)比荷蘭ASML的六面反射鏡系統(tǒng)，物鏡系統(tǒng)工程難度更低，光源系統(tǒng)技術(shù)難度更低，制造成本也低一些，維護(hù)也更容易，然后還有個(gè)最明顯的特征，那就是耗電量更低，大概只有百分之十左右。
當(dāng)然，對(duì)于對(duì)于先進(jìn)工藝的芯片生產(chǎn)成本而言，電費(fèi)成本占比不高。
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