先進工藝芯片的成本，其大頭是半導體工廠的巨大投資成本的折舊成本，一座五納米半導體工廠動不動上百億美元的投資，而這些成本都需要在短短幾年里進行折舊的，平攤到每一年的折舊成本就非常夸張了。
然后是大量的半導體耗材成本，如硅晶圓，光刻膠，特殊氣體等原料也不便宜。
再過來則是電費成本，半導體工廠的耗電量很大的，各種設備都是電老虎，因此電費成本也不算低，智云微電子集團光是每年交電費都是個非常龐大的數字。
最后才是人工成本，這個比例很低……半導體的先進工藝里談論人力成本其實沒有什么實際意義的，因為占比太低了。
因為半導體工廠耗電量比較高，而耗電大頭就是EUV光刻機，因此能夠降低EUV的耗電量也是比較重要的……這一點上海灣科技的EUV光刻機擁有比較大的能耗優勢。
只是這點優勢放在整個先進工藝的生產成本里，其實也不算什么太大的優勢就是了……因為電費成本并不是先進工藝的主要成本，占比也很低的。
海灣科技的EUV光刻機和ASML的EUV光刻機，看似性能差不多，原理也一樣，但是具體技術路線其實有著比較大的差異。
而且荷蘭ASML的同級別光刻機是屬于歐洲日韓等西方工業體系的綜合產物，ASML負責整體設計以及組裝，各大子系統分別有來自美國的光源系統以及對準以及控制系統，來自德國的物鏡系統，然后還有ASML自己研發的工作臺以及定位系統，日本提供的掩模臺系統……還有其他諸多零部件也來自多個國家。
中間缺了任何一個國家的子系統，荷蘭的ASML都無法組裝出來EUV光刻機。
而海灣科技的HEUV-300系列光刻機，則是純國產供應鏈……并且還是由仙女山控股自己研究各大子系統并組裝完成的。
海灣科技負責設計以及組裝。
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