這個10D工藝的技術水平是非常高的，屬于目前世界上技術最先進的內存芯片工藝，沒有之一，哪怕是四星半導體想要追上來都困難的很。
而且這種工藝對先進設備的要求也非常高，10D的很多工序里，已經需要大規模使用最先進的HEUV-300C光刻機了。
之前的10C工藝節點里，可用不著這種頂級家伙，用的還是HEUV-300B光刻機，并且也只是在少量的核心工序里使用。
而10D工藝，則是需要更先進的HEUV-300C光刻機，并且應用工序更多……這意味著性能更優秀，但是制造成本也更高。
主要是HEUV-300C光刻機貴……這種光刻機是目前海灣科技旗下，也是全球范圍內性能最頂級的量產型號光刻機，其1.5納米的套刻精度能夠輕松用于制造等效五納米/七納米工藝的芯片……這款光刻機，乃是智云微電子里現在以及未來用于大規模制造EUV單次曝光工藝的主力光刻機。
至于更老舊的HEUV-300B，雖然光刻性能達標，但是生產效率不太行，每小時產能只有一百二十片，現在都已經停產了……有了更先進的HEUV-300C，海灣科技都不愿意繼續生產HEUV-300B了。
這也和海灣科技自己的策略有關，因為EUV的鏡片組產能有限，一年在只能生產這么點EUV光刻機的情況下，他們更傾向于客戶采購最先進，價格更高，利潤更高的產品。
而不是用寶貴的EUV鏡片組產能，去生產成熟便宜，利潤也比較低的產品。
所以，海灣科技把HEUV-300B光刻機的價格標的比較高，簡單直白的告訴客戶：別買這玩意了，來買HEUV-300C啊！
最后客戶一算，HEUV-300C雖然貴很多，但是綜合使用成本性價比還要更好，所以也不抗拒。
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