別說智云微電子了，現(xiàn)在中芯采購EUV光刻機，都是采購HEUV-300C型了，只是他們沒啥錢，買的很少。
現(xiàn)在的HEUV-300C光刻機還是相當不錯的，都能夠用來勉強生產(chǎn)等效三納米工藝的芯片了……智云微電子的第一代三納米工藝，就是用這款光刻機做的。
當然，只是初步滿足等效三納米工藝的需求，良率以及成本上還是有所不足。
如果要更好，更快，更低成本的制造等效三納米乃至二鈉米等一系列EUV雙重曝光工藝的芯片，那么就需要更新型，目前海灣科技那邊剛完成原型機研制，還沒有開始供貨的HEUV-300D！
第六百一十三章四大巨頭的價格戰(zhàn)
這是一款套刻精度達到了驚人的1納米的頂級EUV光刻機，專門為了EUV雙重曝光工藝而研發(fā)。
不出意外的話，這也將會是HEUV-300系列光刻機的終極產(chǎn)物……因為到這個階段，光源波長已經(jīng)沒辦法縮減了，單次曝光的金屬間距被限制在了26納米左右，用在單次曝光制造五納米工藝就是極限了。
要制造三納米工藝的話，就需要進行雙重曝光，這也是300D光刻機的主要技術(shù)進步特征，進一步縮小了套刻精度，使得雙重曝光的良率更高，成本更低。
然后到了二納米工藝呢？一點五納米工藝？一納米工藝呢？
現(xiàn)在的EUV光刻機可就不太好用了。
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